技术突破需要偏执狂，突破完之后需要完整的商业链条配合，想要打破封锁，不易，但必成。

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• 2023.01.01：完成初稿

读后感

看完之后感觉只有用钞票投票才是对国家最好的支持，我的麒麟 9000 要再服役几年！具体的书本内容是走马观花，顺着 wiki 爬一圈其实也差不多了，当然越看越觉得专业，也就没有太多可以记录的内容了。

读书笔记

2001 年前后，随着半导体工艺的演进，微影技术遇到了瓶颈。此前，业界一直利用空气为介质，采用的是“干式”微影技术，光束波长 157 纳米，已很难缩短。后来，台积电前研发副总经理林本坚解决了这一难题。

极紫外光刻技术是 ASML 攻坚克难过程中的顶级技术。

光刻是用光来制作图形的工艺：在硅片表面均匀涂胶，而后将掩膜版上的集成电路微型图形转印到光刻胶上，需经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀等过程。